PHASE SHIFT MASK（PSM掩模），通过MOSI层爆发180°的相位差以降低光的衍射作用，从而提高掩模图形区分率
相移掩模手艺优点：镌汰邻近效应，使用光的相关性，抵消部分衍射扩展效应，改变空间光强漫衍，使更多的能量从低频分派到高频上，填补投影物镜通低频阻高频的弱点，提高空间图像的反差，改变像质，使区分率和焦深增大
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